激光雕刻氣味處理器 雕刻刺鼻氣味排煙凈化

激光雕刻氣味處理器 雕刻刺鼻氣味排煙凈化

 激光雕刻氣味處理器 雕刻刺鼻氣味排煙凈化

KN401除味系統凈化原理：

UV光氧催化氧化廢氣處理設備，對有機揮發性廢氣，首要進行光解與催化氧化。光解首要是，通過高能UV紫外線對空氣中的氧氣發作分化作用，推進氧分子分化變成游離態的氧，因為游離態氧上的正負電子處于不平衡狀態，因而游離態氧極易與氧分子生成臭氧，而臭氧的強氧化作用可以推進有機揮發性廢氣的分化。在UV高效設備內安裝著紫外線放電管，紫外線放電管發作的光子能量，可以高達647KJ/mol、742KJ/mol，如此高的光子能，可以迅速裂解小于該能量的有機揮發性廢氣的分子鍵，使其轉變為無機小分子物質。

如：氨、硫化氫、甲硫氫、甲硫醇、甲硫醚、甲二硫化碳和苯乙烯，硫化物H2S、VOC類，苯、甲苯、二甲苯的分子鏈結構，使有機或無機高分子惡臭化合物分子鏈，在高能紫外線光束照射下，降解轉變成低分子化合物，如CO2、H2O等。

產品特點

外觀及構造

◆外觀簡潔大方，穩重典雅。機身一體化設計，采用金屬框架結構，優質冷軋鋼板靜電噴塑工藝，持久

耐用。配以不銹鋼拉絲面板更顯經典細膩，令人耳目一新！

◆底部裝在腳墊，可防止機器移位。

凈化原理：

◆化學式： 利用特制的高能高臭氧 UV 紫外線光束照射有機氣體及空氣中的氧分子，裂解有機氣體的分

子鍵，并分解空氣中的氧分子產生游離氧，即活性氧，UV＋O2→O-+O＊(活性氧)O+O2→O3(臭氧)。游

離狀態的污染物分子與臭氧氧化結合成小分子無害或低害的化合物，如 CO2、H2O 等。從而達到凈化氣

體的效果。

UV 光氧凈化器反應工程式：

1、UV + 高分子有機物→低分子有機物

2、UV + 空氣( O2) →O3

3、低分子有機物+ O3→ CO2+ H2O +N2